2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ~薄膜形成からデバイス創出に至るまで~

[10p-W241-1~8] 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ~薄膜形成からデバイス創出に至るまで~

2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:15 W241 (W241)

清水 耕作(日大)、木村 睦(龍谷大)

16:45 〜 17:00

[10p-W241-7] ミストCVDにおける薄膜成長メカニズム

川原村 敏幸1,2、西 美咲1、刘 丽1、坂本 雅仁1、ルトンジャン ピモンパン1、佐藤 翔太1、上田 真理子1、安岡 達也1、長谷川 諒1、田頭 侑貴1、尾崎 珠子1、鄧 太 江1 (1.高知工大 シス工、2.高知工大 総研)

キーワード:ミストCVD、薄膜成長メカニズム

ミストCVDでは供給された液滴中に含まれる原料がどのように薄膜形成に寄与しているのか明確にはわかってなかった。今回は実験と理論からミストCVDにおける薄膜成長メカニズムが判明したので、報告する。