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[10p-W321-5] Ga/(Ga+In)比が三段階法のCu過剰段階に与える影響
キーワード:三段階法、結晶成長
我々は高Ga組成CIGSにおける膜の高品質化を目的とし、3段階蒸着法をベースにした製膜条件の再検討を行っている。3段階蒸着においては、2段階目終了付近のCIGS・Cu2-xSeの二相共存状態を経由する結晶成長が大きな特徴である。本報告では、In, Ga組成の異なるサンプル間でCu過剰組成の膜について比較観察を行い、高Ga組成CIGSの成長に関する問題点並びにその改善方法について検討した。