2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[10p-W323-1~16] 6.4 薄膜新材料

2019年3月10日(日) 13:45 〜 18:15 W323 (W323)

西川 博昭(近畿大)、大友 明(東工大)

14:30 〜 14:45

[10p-W323-3] 乱流を用いたCVD法によるMoS2ナノチューブの合成

〇(B)後藤 真菜美1、柳瀬 隆2、長浜 太郎2、島田 敏宏2 (1.北大工、2.北大院工)

キーワード:MoS2、CVD、ナノチューブ

MoS2 NTは半導体や触媒としての高機能化が期待されている。本研究室ではFeOナノ粒子触媒を用いたCVD法によりMoS2ナノチューブ(NT)の合成に成功している。本実験では乱流を用いて、より簡便なMoS2 NTの合成を試みた。得られたサンプルはzig zag タイプであり、断面TEMからチューブ形状が確認された。本手法では触媒が不要であり、また触媒とMoS2 NTの分離が必要ない。