2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[10p-W323-1~16] 6.4 薄膜新材料

2019年3月10日(日) 13:45 〜 18:15 W323 (W323)

西川 博昭(近畿大)、大友 明(東工大)

15:15 〜 15:30

[10p-W323-6] 不純物ドープ層状La-Ni-O系薄膜のPLD合成および構造・特性評価

〇(M1)堀松 芳樹1、伊藤 翔陽1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)

キーワード:酸化ニッケルランタン、PLD、層状ペロブスカイト

層状ペロブスカイト型遷移金属酸化物であるLan+1NinO3n+1は,単位胞内の八面体層の数によって構造と物性が変化する。例えばLa3Ni2O7-δは固体酸化物形燃料電池としても研究がなされてきた。一方、La層にドープすることで電子がNiO2層に作用することで新規な電子機能に期待できる。本研究では層状ペロブスカイト型La3Ni2O7-δへの不純物ドープによる新規電子機能探索を目的として、合成条件に加えて価数4+の元素によるLa3+置換が、La-Ni-O系薄膜の構造と特性に与える影響を検討した。