2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[10p-W323-1~16] 6.4 薄膜新材料

2019年3月10日(日) 13:45 〜 18:15 W323 (W323)

西川 博昭(近畿大)、大友 明(東工大)

16:00 〜 16:15

[10p-W323-9] パルスレーザ堆積法を用いたZrH2薄膜の作製:水素不定比の制御

西 暁登1、吉松 公平1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)

キーワード:ジルコニウム水素化物、パルスレーザ堆積法、水素不定比

金属水素化物は,高温超伝導体やヒドリド伝導体の発見を契機に近年注目されている.しかしながら,物性研究はこれまでバルク大が主な対象であり,薄膜については合成条件の検討が必要である.これまで我々はパルスレーザ堆積法を用いた薄膜作製を報告してきた.本研究では,水素雰囲気下で定比組成のZrH2薄膜を作製することを目的とした.幅広い水素不定比と非平衡条件下の水素組成の制御について明らかにしたので報告する.