The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[10p-W541-1~20] 15.4 III-V-group nitride crystals

Sun. Mar 10, 2019 1:30 PM - 7:00 PM W541 (W541)

Motoaki Iwaya(Meijo Univ.), Yoshio Honda(Nagoya Univ.), Shugo Nitta(Nagoya Univ.)

3:00 PM - 3:15 PM

[10p-W541-7] Fabrication and optical characteristics of GaN-QPM crystal using double polarity selective area growth

Kai Matsuhisa1, Yuto Kobayashi1, Atsushi Sugita1, Yoku Inoue1, Takayuki Nakano1 (1.Shizuoka Univ.)

Keywords:GaN, MOVPE, DP-SAG

GaNはc軸方向に対しGa極性面およびN極性面が存在する.各極性の特徴を利用し,極性構造を用いることでQPM結晶が作製可能であり,SHGデバイスの実現として期待されている.GaN-QPM結晶の作製方法としてカーボンマスクを用いた両極性同時成長法が提案され,開発されている.本研究では現在までに確認された狭ピッチパターン両極性同時成長法の最適条件を用いてGaN-QPM結晶の作製を行い,光学特性を評価した.