2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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コードシェアセッション » 【CS.5】6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション

[10p-W631-1~12] CS.5 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション

2019年3月10日(日) 13:45 〜 17:00 W631 (W631)

小林 正治(東大)、清水 荘雄(東工大)、藤井 章輔(東芝メモリ)

14:30 〜 14:45

[10p-W631-4] HfO2薄膜の強誘電相形成におけるドーパントの役割

森 優樹1、西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、右田 真司2、鳥海 明1 (1.東大院工、2.産総研)

キーワード:HfO2、強誘電体