2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-W641-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年3月10日(日) 13:45 〜 18:15 W641 (W641)

木下 健太郎(東理大)、西 佑介(京大)

14:45 〜 15:00

[10p-W641-5] TaOx薄膜を用いたアナログ抵抗変化素子中の酸素分布に依存して観測される競合的な抵抗変化

島 久1、高橋 慎1、内藤 泰久1、秋永 広幸1 (1.産総研ナノエレクトロニクス研究部門)

キーワード:アナログ抵抗変化、酸化物

アナログ的な抵抗変化を呈する素子の抵抗値は、パターンの分類を行うニューラルネットワークの重みとして活用できる[1]。我々は以前に、TaOx薄膜を用いた抵抗変化素子の電極材料を貴金属材料であるPtからTiNへ変更することで、アナログ抵抗変化動作が安定化することを報告した[2]。今回、素子を構成するTaOx薄膜内の酸素分布に依存して観測される競合的な抵抗変化について報告する。
[1]H. Shima et al., IEEE JEDS 6, 1225 (2018). [2]島 他、第65回応用物理学会春季学術講演会.