[10p-W833-1~17] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[10p-W833-1] 接合したシリカガラス間のOH基拡散解析方法の改良

〇杉山 雄哉¹、青木 裕亮¹、葛生 伸¹、堀越 秀春²、堀井 直宏³ (1.福井大、2.東ソー、3.福井高専)

キーワード：シリカガラス

OH基濃度の異なる2種類のシリカガラスを接合し熱処理した時のOH基の拡散を研究してきた。ボルツマン俣野の方法を用いて拡散係数を求め、拡散係数がOH基濃度に比例することが分かった。これまで、データ点に自在定規をあわせて各点に直定規を当てて微分係数を計算するというアナログな方法で解析してきた。今回、近似関数を用いたフィッティングを提案し、濃度に依存する拡散係数を容易に計算できる方法の開発を試みた。