2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[10p-W833-1~17] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年3月10日(日) 13:15 〜 17:45 W833 (W833)

正井 博和(産総研)、吉田 憲充(岐阜大)、中岡 俊裕(上智大)

13:30 〜 13:45

[10p-W833-2] 接合したシリカガラス間のOH基拡散に対する理論解の実験データへのフィッティングによる拡散係数の決定

〇(M1)青木 裕亮1、荒川 優1、葛生 伸1、堀越 秀春2、杉山 雄哉1、堀井 直宏3 (1.福井大工、2.東ソー・エスジーエム、3.福井高専)

キーワード:非晶質

拡散係数のOH濃度に対する比例係数の温度依存性をアレニウスプロットしたとき、有水ガラスと無水ガラスで1100°C以上の高温で違いが生じた。それが解析方法に基づく誤差による可能性もあるため、OH濃度分布の理論解を実験データにフィッティングすることで拡散係数を求め,比較した。従来と同様,無水シリカガラスと有水シリカガラスの差異がみられた。