[10p-W833-1~17] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

△ [10p-W833-9] 室温原子層堆積法を用いたNb₂O₅積層コーティングの耐腐食特性

〇(DC)吉田 一樹¹、三浦 正範²、英 傑¹、鹿又 健作²、廣瀬 文彦¹ (1.山形大院理工、2.山形大有機)

キーワード：原子層堆積法、薄膜形成、耐腐食

Al₂O₃は高い安定性を持つことから耐腐食材料として知られている。一方で薄いAl₂O₃膜では水や酸による腐食を防ぎきれない。これに対してNb₂O₅を積層することで耐腐食性能が大きく改善する報告がある。しかし高温での成膜が必須であり、フレキシブルエレクトロニクス分野への応用が難しい。本研究では室温原子層堆積法を用いてAl₂O₃とNb₂O₅の積層膜を形成し高い耐腐食性能を得ることに成功したのでこれを報告する。