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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[10p-W834-1~14] 3.5 レーザー装置・材料

2019年3月10日(日) 13:15 〜 17:00 W834 (W834)

戸倉川正樹(電通大)、古瀬裕章(北見工大)

15:15 〜 15:30

△ [10p-W834-8] InGaN-LD励起640-nm ピコ秒パルスPr:YLF再生増幅器

〇(M1)藤田将吾¹、杉山直仁¹、神成文彦¹ (1.慶大理工)

キーワード：増幅器、可視レーザー、Pr:YLF