[11a-PB4-1~18] 15.4 III-V族窒化物結晶

[11a-PB4-8] CVD成長六方晶窒化ホウ素薄膜の高品質化に向けた基板加熱方法の検討

〇名嘉眞 朝泰¹、川原崎 匠¹、松下 一貴¹、小南 裕子¹、原 和彦^2,3 (1.静岡大総合研、2.静岡大創科院、3.静岡大電子研)

キーワード：六方晶窒化ホウ素、化学気相法、薄膜