2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[11a-W521-5~10] 17.3 層状物質

2019年3月11日(月) 10:00 〜 11:30 W521 (W521)

吾郷 浩樹(九大)

10:15 〜 10:30

[11a-W521-6] 出発材料比較による高品質SnS薄膜の作製

川元 颯巳1、東垂水 直樹1、中村 優2、若林 克法3、長汐 晃輔1 (1.東大マテリアル、2.NIMS、3.関学)

キーワード:SnS、硫化スズ、成長

通常のPVD法による成長では購入した粉末を出発材料として成長を行う.しかしながら,購入した粉末材料を調べたところ,酸化物,不純物が含まれており,成長に影響を及ぼしていることが考えられた.そこで高純度の結晶を出発材料とした成長を行い比較することで,より高品質な成長結晶を得ることを試みた.