2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.11 フォトニック構造・現象

[11a-W631-1~10] 3.11 フォトニック構造・現象

2019年3月11日(月) 09:30 〜 12:15 W631 (W631)

浅野 卓(京大)、納富 雅也(東工大/NTT)

09:30 〜 09:45

[11a-W631-1] 相変化材料を用いた光トポロジカル相転移の検討

上村 高広1,2、千葉 永1,2、養田 大騎1,2、森竹 勇斗1、田中 祐輔2、納富 雅也1,2,3 (1.東工大理、2.NTT物性研、3.NTT NPC)

キーワード:フォトニック結晶、光トポロジカル絶縁体、相変化材料

近年、結晶電子系におけるトポロジカル絶縁体のアナロジーとして、光トポロジカル絶縁体と呼ばれる物質が考案された。これまで、光トポロジカル絶縁体のトポロジーを、外部から動的に制御する研究は殆ど行われていなかった。今回、相変化材料であるGST(Ge2Sb2Te5)を用いてこれを可能にする方法を見出したので、報告する。