[11a-W934-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[11a-W934-7] Silicide/Si界面における弱いFermi-level Pinningの起源

〇西村 知紀¹、羅 璇¹、矢嶋 赳彬¹、鳥海 明¹ (1.東大院工)

キーワード：フェルミレベルピンニング、シリサイド