2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[11p-M113-1~20] 6.2 カーボン系薄膜

2019年3月11日(月) 13:15 〜 19:00 M113 (H113)

小山 和博(デンソー)、小野田 忍(量研機構)、藤井 知(沖縄高専)

13:15 〜 13:45

[11p-M113-1] [第3回薄膜・表面物理分科会論文賞受賞記念講演] 反転層チャネルダイヤモンドMOSFETの実証

松本 翼1、加藤 宙光2、小山 和博3、牧野 俊晴2、小倉 政彦2、竹内 大輔2、猪熊 孝夫1、山崎 聡1,2、徳田 規夫1,2 (1.金沢大、2.産総研、3.デンソー)

キーワード:MOS、ダイヤモンド、MOSFET

次世代の半導体デバイス、特に省エネルギー化を実現するパワーデバイス材料として期待されているダイヤモンドを用いて、ノーマリオフ動作を有する反転層チャネルMOSFETを世界で初めて実証した。最近では、窒素ドープダイヤモンド薄膜を用いた反転層チャネル動作にも成功した。本講演では、以上の成果について詳しく紹介する。