2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[11p-M113-1~20] 6.2 カーボン系薄膜

2019年3月11日(月) 13:15 〜 19:00 M113 (H113)

小山 和博(デンソー)、小野田 忍(量研機構)、藤井 知(沖縄高専)

14:15 〜 14:30

[11p-M113-4] 相補型高周波増幅器応用に向けた(111)ダイヤモンドMOSFETsの高周波特性評価

〇(B)久樂 顕1、今西 祥一朗1、大井 信敬1、大久保 智1、堀川 清貴1、蔭浦 泰資1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早稲田大学、2.早大材研)

キーワード:高周波FET、相補型高周波増幅器、ダイヤモンド

2DHGダイヤモンドは、GaN n-FETと相補的な回路を構成できる唯一のp-FETである。GaN n-FETは(111)ダイヤモンド基板上にヘテロエピタキシャル成長にて形成でき、同基板で近い性能のp-FETを得ることができればモノリシック相補型高周波増幅器が実現できる。本研究では、同基板上に2DHGダイヤモンドMOSFETsを作製し、高電圧 (|VDS| ≥ 30 V)での高周波特性を評価した。