[11p-M116-1~15] 1.5 計測技術・計測標準

[11p-M116-11] 原子間力顕微鏡法における薄膜破壊プロセスの解析(Ⅱ)

石原 浩行^1,2、〇若家 冨士男¹、村上 勝久²、長尾 昌善²、宮戸 祐治¹、山下 隼人^1,3、阿保 智¹、阿部 真之¹ (1.阪大院基礎工、2.産総研、3.JSTさきがけ)

キーワード：原子間力顕微鏡

原子間力顕微鏡(AFM)を用いて薄膜試料(脂質二重膜など)を観測する際に，薄膜試料が破壊される現象を経験している．この現象は，薄膜試料の厚さやサイズやヤング率，測定に用いるカンチレバーのバネ定数や探針径，さらに，測定時の周波数や振幅など,非常に多くのパラメータに依存したものである. しかし, これら多くのパラメータを考慮し,具体的に試料破壊の条件を求める理論や実験の報告はない．本研究では，様々な材料や膜圧のフリースタンディング膜を実際に AFM プローブで破壊するときの力を計測し，理論と比較検討する．