[11p-PA2-1~10] 1.3 新技術・複合新領域

△ [11p-PA2-6] フォトニック/プラズモニックナノデバイスのためのモールド形状制御技術の開発

〇前野 権一¹、山田 大空¹、志水 友哉¹、川﨑 大輝¹、末吉 健志¹、久本 秀明¹、遠藤 達郎^1,2 (1.阪府大院工、2.JSTさきがけ)

キーワード：ナノインプリント、フォトニック結晶、プラズモンデバイス

ナノインプリントリソグラフィー等のモールドを利用したナノ構造作製技術は、ナノ構造の簡便かつ安価な作製を可能とする。しかし従来のモールド作製法では、ナノ構造制御のために煩雑な作製条件最適化が必要であり、デバイス構造の変更が困難であった。そこで我々は、数 nm の厚み精度でポリマー薄膜を交互に堆積させるLayer-by-Layer(LbL)法を利用したモールド形状制御手法を提案する。これにより、ナノデバイスの構造や光学特性の容易な制御が期待される。