2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[11p-PB1-1~40] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2019年3月11日(月) 13:30 〜 15:30 PB1 (武道場)

13:30 〜 15:30

[11p-PB1-27] リソグラフィフリー赤外完全吸収体の設計と評価

熊谷 拓洋1、藤 直毅1、西島 喜明2 (1.横国大理工、2.横国大工)

キーワード:メタ表面

現在、様々な波長帯における完全吸収体の研究がさかんに行われている。我々は、金属-誘電体-金属ナノ構造(MIM)型プラズモニック完全吸収体について、構造設計や赤外光源・検出器への応用を目指して研究を行っている。しかし、このような吸収体はEB描画などのリソグラフィ工程を経る必要があり、大面積化が困難である。そこで、リソグラフィフリーな吸収体が注目されている。本研究ではAu-SiO2-Si-Auの四層型吸収体に着目し、時間領域差分(FDTD)法によるシミュレーションと蒸着を駆使したサンプル作製と光学的評価を行ったので報告する。