[11p-S011-1~18] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

△ [11p-S011-14] 酸化物半導体薄膜の成長および特性に及ぼすポリマー基板表面における原子レベルパターンの影響

〇(M1)大賀 友瑛¹、岩佐 健¹、山田 志織¹、金子 智^2,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)

キーワード：ポリマー、原子レベルパターン、酸化物半導体薄膜

ポリマー材料は酸化物薄膜などと組み合わせたフレキシブルデバイスへの応用が注目されている。ガラス転移温度以下かつポリマー上での酸化物薄膜の特性向上には、核形成および成長方位の制御が重要となる。我々は、熱ナノインプリント法によるポリマー基板表面への原子ステップ形状の転写などについて報告してきた。本研究では、ポリマー表面の原子レベルパターンが酸化物薄膜の成長と特性に及ぼす影響について検討した。