2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[11p-S422-1~10] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年3月11日(月) 13:45 〜 17:00 S422 (S422)

鈴木 秀俊(宮崎大)、松本 功(大陽日酸)

15:00 〜 15:15

[11p-S422-4] 二重層構造を有するInAs/GaAs長波長量子ドットの成長

ZHAN WENBO1、權 晋寛1、渡邉 克之1、岩本 敏1,2、荒川 泰彦1 (1.東大ナノ量子機構、2.東大生研)

キーワード:量子ドット、ヒ化インジウム、二重層構造

量子ドットの概念が提案された以来、サイズ制御および歪み緩和層の導入などで長波化を図られてきた。しかし、InAs/GaAs材料起因の問題より、1.4μm以上の長波長では、発光強度などの特性の顕著な低下が報告されている。本報告では、InAs/GaAs二重層構造を有する量子ドット構造を成長し、InGaAs歪み緩和キャッピングを行うことで、1.45μm付近で19.5meVの狭線幅を持つことを確認したので報告する。