2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[11p-S422-1~10] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年3月11日(月) 13:45 〜 17:00 S422 (S422)

鈴木 秀俊(宮崎大)、松本 功(大陽日酸)

15:30 〜 15:45

[11p-S422-5] 1.5µm帯メタモルフィックInAs/GaInAs/GaAs量子ドットのMBE成長

渡邉 克之1、詹 文博1、角田 雅弘1、權 晋寛1、荒川 泰彦1 (1.東大ナノ量子機構)

キーワード:量子ドット、インジウムヒ素、メタモルフィック

メタモルフィックInAs/GaInAs/GaAs量子ドットについて、GaInAs層のIn組成依存性を系統的に調べた。In組成を0.2から0.35までに増やすことで、InAs量子ドットの室温発光波長の1.3µmから1.5µmまでの長波長化を達成した。