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[11p-W321-9] 直接半導体ウェハ接合法によるオーミック特性をもつInP/Si界面の形成
キーワード:半導体ウェハ接合、多接合太陽電池、オーミックヘテロ構造
ウェハ接合は、低結晶欠陥密度の格子不整合ヘテロ構造形成法であることから、高効率な多接合太陽電池の作製法として期待されている。本研究では、低コストなことから太陽電池への使用が有望視されるSiと代表的III-V化合物半導体の一つであるInPのヘテロ構造を形成した。接合前にウェハに対して適切な表面前処理を施すことでオーミックな電気特性を持つ接合界面の形成を実現した。