2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[11p-W351-1~14] 6.1 強誘電体薄膜

2019年3月11日(月) 13:00 〜 17:00 W351 (W351)

平永 良臣(東北大)、恵下 隆(和歌山大)、木口 賢紀(東北大)

13:30 〜 13:45

[11p-W351-3] RFスパッタ法により作製したPZT系エピタキシャル薄膜のMPB特性

〇(M1C)野田 隆太1,2、清水 貴博1,2、和佐 清孝4、柳谷 隆彦1,2,3 (1.早稲田大学、2.材研、3.JSTさきがけ、4.横浜市立大)

キーワード:PZT、MPB

バルクPZTの電気機械結合係数k33はMPB付近で最大になることが知られており,アクチュエータやセンサなど様々なデバイスに応用されている.しかしながら我々のグループがスパッタ法で作製したPbTiO3エピ膜のktは,再現性良くMPB付近のPZTエピ膜よりも高くなる.さらにバルクのキュリー温度を大きく超えた550℃付近でも圧電性を維持することも発見しており,バルクとスパッタエピ膜では特性が異なることがわかっている.そこで本研究では,様々な組成のPZTエピ膜をスパッタ法により作製し,それぞれの格子定数,誘電率,電気機械結合係数,抗電界を評価した.