The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

17 Nanocarbon Technology » 17.3 Layered materials

[11p-W521-1~18] 17.3 Layered materials

Mon. Mar 11, 2019 1:45 PM - 6:30 PM W521 (W521)

Masaki Nakano(Univ. of Tokyo), Takamasa Kawanago(Tokyo Institute of Technology)

3:15 PM - 3:30 PM

[11p-W521-7] Specific Interaction between 2D Materials and Amide Molecules

Akito Fukui1, Yuh Hijikata2, Jenny Pirillo2, Hisashi Ichimiya1, Takeshi Yoshimura1, Atsushi Ashida1, Norifumi Fujimura1, Daisuke KIriya1,3 (1.Osaka Pref. Univ., 2.Nagoya Univ., 3.JST PRESTO)

Keywords:Transition Metal Dichalcogenide, MoS2, Molecular Doping

我々は、2次元半導体のキャリア注入制御に向けて、2次元半導体と、非破壊的な処理が可能な分子との相互作用に注目をしている。前回の応用物理学会において、アミド系分子であるN, N-ジメチルホルムアミド(DMF)が2次元半導体の一つであるMoS2に対し有効なドーパントとなることを報告した。さらに、本分子ドーピングは、MoS2の水素雰囲気下での前処理によって阻害されることも見出した。本発表では、MoS2とアミド系分子間の相互作用について検討を行ったので報告する。