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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[11p-W834-1~18] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2019年3月11日(月) 13:15 〜 18:30 W834 (W834)

末益崇(筑波大)、立岡浩一(静大)、山口憲司(量研機構)、原康祐(山梨大)

13:45 〜 14:00

[11p-W834-3] Mg₂Si(111)//Si(111)高配向膜における光変調反射率スペクトルの評価

〇星田裕文¹、S. Alexander²、I. Chernev²、N.G. Galkin²、寺井慶和¹ (1.九工大情報工、2.FEBRAS)

キーワード：光変調反射率、マグネシウムシリサイド