2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

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[11p-W933-1~11] 結晶工学×放射光シンポジウム

2019年3月11日(月) 13:30 〜 18:45 W933 (W933)

高橋 正光(量研機構)、谷川 智之(東北大)、佐々木 拓生(量研機構)

15:00 〜 15:15

[11p-W933-4] N極性GaN上の液体Ga層のその場X線構造解析

佐々木 拓生1、高橋 正光1 (1.量研)

キーワード:放射光、分子線エピタキシー、GaN

窒化ガリウム(GaN)成長中の表面構造を定量的に捉えることは、エピタキシャル成長の基礎学理を理解する上で重要であるとともに、結晶のさらなる高品質化に向けた設計指針の構築にとっても重要である。我々はこれまでに、GaN表面上にGaを照射しながらX線Crystal Truncation Rod(CTR)散乱強度をその場測定することによって、Ga極性GaN表面上の液体Ga層の構造を明らかにしている。本研究は同測定手法をN極性GaN表面に適用し、実験とシミュレーションからGaN表面上の液体Ga層の構造を決定した。