[12a-PA3-1~26] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[12a-PA3-10] ゾル・ゲルディップ法によるNiCdO薄膜の作成

〇安田 隆¹、山田 恭明¹、梅津 瑠偉¹ (1.石専大理工)

キーワード：酸化物、NiCdO、ゾル・ゲル法

岩塩構造酸化物であるNiOとCdOの混晶薄膜をゾル・ゲル法により作成し,その評価を行った。