[12a-PA3-1~26] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

△ [12a-PA3-2] ミストCVD における酸化亜鉛薄膜形成時の水の効果

ルトンジャン ピモンパン¹、〇西 美咲¹、川原村 敏幸¹、坂本 雅仁¹、刘 丽¹、佐藤 翔太¹、上田 真理子¹、安岡 龍哉¹、長谷川 諒¹、尾崎 珠子¹、鄧 太 江¹ (1.高知工科大)

キーワード：ミストCVD

本研究室で開発を進めているミスト流を利用した機能膜形成技術「ミストCVD」は最近、時間的･空間的な隔たりをうまく活用することが可能な気液混相流を利用する事で、従来の機能膜形成技術では不可能であった事ができる新世代(第3世代)技術へと進化してきた。今回はこの第3世代ミストCVDを利用してZnO薄膜の高品質化に関する研究を行った。表面での原料の挙動等に関して理論と併せて詳しく説明したい。