[12a-PA3-1~26] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[12a-PA3-4] ミストCVD法によるアモルファスAl₂O₃薄膜の作製と評価

〇(M1)西村 和樹¹、西山 光士¹、藤元 佑紀²、谷田部 然治³、中村 有水^4,5 (1.熊大院自、2.熊大工、3.熊大院先導、4.熊大院先端、5.くまもと有機薄膜セ)

キーワード：ミストCVD、Al2O3