2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[12p-W541-1~12] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年3月12日(火) 13:30 〜 17:00 W541 (W541)

小島 一信(東北大)、船戸 充(京大)

16:30 〜 16:45

[12p-W541-11] 成長モード制御によるAlGaN下地層の高品質化とUV-Bレーザへの応用

〇(M2)川瀬 雄太1、池田 隼也1、櫻木 勇介1、安江 信次1、手良村 昌平1、田中 隼也1、荻野 雄矢1、岩谷 素顕1、竹内 哲也1、上山 智1、岩山 章1,3、赤﨑 勇2,1、三宅 秀人3 (1.名城大理工、2.名古屋大・赤崎記念研究センター、3.三重大・地域イノベ)

キーワード:AlGaN、レーザ

本報告では、アニールしたスパッタ AlN 膜上に、厚膜のAlGaN下地層の膜厚の成長モードを制御することが高品質AlGaNを得るのに有用であることを見出したので報告する。また、そのAlGaN下地層に活性層を積層させてレーザ特性や転位密度について調べた。当日は、断面TEM像を用いて、転位低減のメカニズムと成長モードについても詳細に議論する。