Study on the electrical relationship at the interface between LN melt and LN crystal

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.1 バルク結晶成長

2019年3月9日(土) 09:00 〜 12:15 S422 (S422)

横田有為(東北大)、荻野拓(産総研)

11:00 〜 11:15

〇(D)Qilin Shi¹、Chihiro Koyama²、Jun Nozawa¹、Satoshi Uda¹ (1.IMR, Tohoku Univ.、2.JAXA)

キーワード：interface electric field, segregation, Schottky barrier