[9a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

[9a-W631-2] 超短パルスレーザー照射によるLIPSS形成のパルス幅依存性

〇(M1C)吉川 秀亮¹、宮川 鈴衣奈¹、Lim Hwan Hong²、平等 拓範^2,3、江龍 修¹ (1.名工大.院、2.分子研、3.理研RSC)

キーワード：超短パルスレーザー、ナノ周期構造、LIPSS

レーザー波長の半分以下の周期をもつレーザー誘起周期構造（Fine-LIPSS）は、様々な応用が期待されており、フェムト秒オーダーのパルスレーザーでのみ形成が報告されてきた。本研究ではパルス幅をフェムト秒からナノ秒オーダーで変化させ、レーザーパルス幅とパルス積重数がLIPSS形成に与える影響を調べた。450fsでは約300nm周期のFine-LIPSS、500psでは約300nm周期のFine-LIPSSと約700nm周期のLIPSS、1nsでは約700nm周期のLIPSSのみ形成され、2.5nsでの照射ではLIPSSは形成されなかった。