2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[9a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月9日(土) 09:00 〜 12:15 W631 (W631)

谷 峻太郎(東大)、長谷川 智士(宇都宮大)

10:45 〜 11:00

[9a-W631-7] 短波長フェムト秒レーザーによる合成石英のアブレーション閾値のパルス幅依存性

〇(M1)寺澤 英知1,2、佐藤 大輔2、澁谷 達則2、盛合 靖章2、黒田 隆之助2、田中 真人2、坂上 和之3、鷲尾 方一1 (1.早大理工総研、2.産総研、3.東大光量子セ)

キーワード:レーザーアブレーション、アブレーション閾値、合成石英