2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[9a-W933-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年3月9日(土) 09:00 〜 11:30 W933 (W933)

矢嶋 赳彬(東大)

10:30 〜 10:45

[9a-W933-6] PLD手法を用いたSrTiO3薄膜の成長におけるHeガスの効果

高橋 竜太1,2、李 智蓮1、リップマー ミック1 (1.東大物性研、2.JSTさきがけ)

キーワード:パルスレーザー堆積法、SrTiO3