2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[9p-M116-1~13] 3.1 光学基礎・光学新領域

2019年3月9日(土) 13:15 〜 17:00 M116 (H116)

柚山 健一(北大)、藤原 英樹(北大)

16:15 〜 16:30

[9p-M116-11] レーザー干渉加工による位相ホログラフィック回折格子の作製と電子渦ビームの生成

福島 涼太1、上杉 祐貴1、齋藤 晃2、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研、2.名大未来研)

キーワード:電子渦、ホログラフィック回折格子、レーザー干渉加工

近年、電子顕微鏡法の分野で電子渦ビームの発生とその利用が注目されており、ホログラフィック回折格子に電子線を入射し、回折波として取り出す方法が簡便かつ実用的である。本研究では、その回折格子を作製する手法としてレーザー干渉加工を用いた新しい手法を試みている。フェムト秒レーザーを使用したアブレーション加工により、回折効率の高い位相ホログラフィック回折格子をシングルショットで作製することが可能である。