2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[9p-PA4-1~30] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年3月9日(土) 16:00 〜 18:00 PA4 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[9p-PA4-14] ウェットプロセスによるTa2O5, HfO2を用いた抵抗変化型素子の比較

小牧 秀和1、西郷 太輔1、番 貴彦1、山本 伸一1 (1.龍谷大理工)

キーワード:抵抗変化