[9p-PB2-1~12] 3.7 レーザープロセシング

[9p-PB2-3] 球面収差を利用したレーザ加工による半導体ナノ構造形成

鈴木 智貴¹、〇斉藤 光徳¹ (1.龍谷大理工)

キーワード：レーザーアブレーション、半導体、ナノ構造

シリコン表面にナノメートルサイズの多角形構造を形成するため、レーザアブレーションとアルカリエッチングを組み合わせた加工を行った。小型ピコ秒レーザから出た波長532nmのレーザビームを焦点距離5mmのレンズで集光すると、球面収差を利用して焦点よりもレンズに近い位置で小さく深いアブレーション孔を形成することができ、水酸化カリウム水溶液による異方性エッチングで、800nmの六角形孔を配列させることができた。