2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[9p-S221-1~15] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:45 S221 (S221)

井田 次郎(金沢工大)、田岡 紀之(産総研)

14:30 〜 14:45

[9p-S221-4] 量子効果の影響を考慮したGaAsSb/InGaAs Double-Gate Tunnel FETの検討

野上 直哉1、福田 浩一1,2、宮本 恭幸1 (1.東工大工、2.産総研)

キーワード:トンネルFET

量子効果を考慮したシミュレーションによりダブルゲートヘテロTFETの検討を行った。組成比により実効的なバンドギャップを調整することで電源電圧0.5Vでのオン電流とゲート容量によってITRSの2028年の真性遅延を達成できる可能性を見出した。