2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:00 S223 (S223)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

16:15 〜 16:30

[9p-S223-10] モールドと基板間から生じる蛍光角度モアレの観察

吉田 拓真1、落合 研斗1、大沼 晶子1、須藤 和恵1、伊東 駿也1、中村 貴宏1、中川 勝1 (1.東北大多元研)

キーワード:光ナノインプリントリソグラフィ、アライメント、蛍光角度モアレ

光ナノインプリントリソグラフィにおいて所望のレジストパターンを基板上の所定位置に成形するためには、モールドと基板の高精度なアライメントが重要となる。当グループは蛍光性液体を用いた「蛍光モアレアライメント」を提案し、発現する干渉縞が和のモアレであることを示した。本研究では、積のモアレを観察するためのライン&スペースパターンを設計し、和の蛍光角度モアレパターンの観察を検討した。