[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-12] 無電解Niメッキを用いた石英ガラス深掘りエッチング用マスクの作製

大音 竜一郎¹、〇川田 博昭¹、安田 雅昭¹、平井 義彦¹ (1.大府大工)

キーワード：エッチングマスク、無電解Niメッキ、深掘りエッチング

石英のプラズマエッチングでは選択比の大きなマスク材が得られにくいため、その深掘りエッチングは容易でない。ニッケル(Ni)はプラズマに対するエッチング耐性が大きい材料である。本研究では真空を用いない無電解Niメッキを用いてNiエッチングマスクを作製した。わずかなプロセスの変更によりレジストパターンと同じNiマスクが得られるポジプロセスとレジストパターンと逆のNiマスクが得られるネガプロセスを開発した。