2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:00 S223 (S223)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

15:30 〜 15:45

[9p-S223-7] 粗視化分子動力学シミュレーションによるブロック共重合体ラメラ相のグラフォエピタキシ

山口 徹1、田中 弘隆1、藤原 聡1 (1.NTT物性基礎研)

キーワード:リソグラフィ、自己組織化、ブロック共重合体

ラメラ相が発現可能な最も小さいA2B2のバネ粒子モデルを用いて、トレンチ構造中での垂直ラメラ相のグラフォエピタキシ成長に関して粗視化分子動力学シミュレーションを行った。ドメイン界面ラフネスについて、実パターンの測定値とほぼ合致した。A2B2のような極端に粗視化したモデルでもラフネス発生の考察に適用でできることが示唆される。