2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:00 S223 (S223)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

15:45 〜 16:00

[9p-S223-8] 力学高強度な複製モールドを目指した有機-無機ハイブリッド材料の開発

伊東 駿也1、中村 貴宏1、中川 勝1 (1.東北大多元研)

キーワード:光ナノインプリントリソグラフィ、複製モールド、有機ー無機ハイブリッド材料

光ナノインプリントリソグラフィにおいて、高い紫外線透過性を有する高信頼性の複製樹脂モールドの作製が低コスト化に不可欠である。複製樹脂モールドは力学強度が合成石英に比べて著しく低いことから、連続成形時の寸法安定性の向上と長寿命化に向けて力学強度の向上が必要である。本研究では複製モールドの力学高強度化を目指し、光硬化性組成物にシリカナノ粒子を導入した有機-無機ハイブリッド材料を検討した。