[9p-W611-1~8] 16.3 シリコン系太陽電池

△ [9p-W611-5] 透明導電膜のスパッタリング堆積による下地へのダメージ評価

〇西原 達平¹、神岡 武文¹、金井 皓輝¹、大下 祥雄²、大川 登志郎³、小椋 厚志¹ (1.明治大、2.豊田工大、3.シエンタオミクロン)

キーワード：Si太陽電池、透明導電膜、X線光電子分光法

ヘテロ接合型Si 太陽電池では、Si 基板で生成されたキャリアを効率的に電極へ輸送するために、透明導電膜(TCO)を電極下に挿入するが、TCO 堆積の際の下地へのダメージが懸念される。本研究では異なる手法でTCO をSi 基板上に直接堆積し、その界面を詳細に評価することで、TCO 堆積によるダメージの評価を試みた。評価手法として、X線光電子分光法を使用した。