[9p-W611-1~8] 16.3 シリコン系太陽電池

[9p-W611-8] VHF-PECVDを用いて成膜したヘテロ接合太陽電池用p型ナノ結晶シリコンの評価

〇(P)海汐 寛史¹、Chen Pei-Ling¹、松井 卓矢¹、齋 均¹、松原 浩司¹ (1.産総研)

キーワード：シリコンヘテロ接合太陽電池、ナノ結晶シリコン、VHF-PECVD

シリコンヘテロ接合(SHJ)太陽電池の高効率化を妨げる問題としてa-Si:H窓層の寄生吸収ロスが存在するが、その抑制手法としてナノ結晶シリコン(nc-Si:H)の利用が挙げられる。本研究では、SHJ太陽電池窓層への応用に向けたp型nc-Si:Hの高品質化を目指し、very-high-frequency plasma-enhanced chemical-vapor-deposition (VHF-PECVD)を用いたnc-Si:H成膜について検討を行った。また、nc-Si:Hの膜特性の調査のため、ラマン散乱分光法を用いてnc-Si:H薄膜の結晶性を評価し、加えて、SHJセルを作製してI-V特性を評価した。