2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[9p-W621-1~16] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2019年3月9日(土) 13:30 〜 18:15 W621 (W621)

岩長 祐伸(物材機構)、久保 若奈(農工大)、梶川 浩太郎(東工大)

14:30 〜 14:45

[9p-W621-4] PVA犠牲層を利用した転写プロセスによる伸縮性プラズモニックカラーフィルタの作製

熊谷 隼人1、高橋 功2、武岡 真司2,4、澤田 和明1、藤枝 俊宣2,3,4、髙橋 一浩1,4 (1.豊橋技科大、2.早大、3.東工大、4.JST さきがけ)

キーワード:表面プラズモン、カラーフィルタ、ナノシート

プラズモニックカラーフィルタ(PCF)とは金属サブ波長格子構造であり,格子周期に依存する波長選択性を有する.とりわけ,格子周期を機械的に制御する可変PCFの研究が注目を集めている.本研究では, Al微細構造をバルク基板上に形成し,ポリビニルアルコール(PVA)犠牲層を利用してナノ周期構造をエラストマーナノシート上へ転写することで可変PCFに向けた基礎製作を行なった。その結果、TE/TM偏光と格子周期で異なる6色の観測に成功した.