2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[9p-W631-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月9日(土) 13:45 〜 16:45 W631 (W631)

花田 修賢(弘前大)、寺川 光洋(慶大)

14:15 〜 14:30

[9p-W631-3] 極端紫外線フェムト秒パルスによる誘電体のレーザー加工

〇(PC)澁谷 達則1、坂上 和之2、ヂン タンフン3、高橋 孝1,2、石野 雅彦3、東口 武史4、鷲尾 方一5、田中 真人1、小川 博嗣1、錦野 将元3、小林 洋平2、黒田 隆之助1 (1.産総研、2.東大、3.量研、4.宇大、5.早大)

キーワード:極端紫外線、フェムト秒レーザー加工、ガラス加工

極端紫外線領域における誘電体のフェムト秒レーザー加工特性を明らかにするため、X線自由電子レーザー施設SACLAの軟X線ビームラインBL1を利用して、シングルショット照射及び60Hzでのマルチショット照射実験を行い、アブレーション閾値及び加工モルフォロジーについて調査した。