13:15 〜 13:30 [10p-Z09-4] フッ硝酸を用いたSiエッチングにおけるソーマーク段差平坦化メカニズムの解明 (2) 〇深谷 天1、竹尾 建治1、鹿浜 康寛1、西尾 賢哉1、平野 智暉1、齋藤 卓1、萩本 賢哉1、岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ)